质谱法是鉴定化合物的有力工具之一。目前已经在有机化学、生化、药物代谢、临床、环保、石化学等领域广泛应用，对于推进工业、医药、科研等发展具有重要作用。

今年即将实施的一系列有关质谱法的国家标准，一共有12项。

按照正式实施日期可分为：

一、2022年5月1日即将实施的有：

1、《马铃薯茎叶及其加工制品中茄尼醇的含量测定高效液相色谱－质谱法》

此标准规定了用高效液相色谱测定马铃薯茎叶及其加工制品中茄尼醇含量的原理、材料、仪器与设备、测定步骤、结果计算与表示、精密度和回收率、检验报告。茄尼醇是合成多种心血管疾病治疗药物、抗癌药物和抗溃疡药物的重要中间体，此外茄尼醇本身还具有抗菌、消炎和止血等作用，所以从马铃薯茎叶中提取茄尼醇是其资源化利用的有效途径之一。为了更好地利用茄尼醇，制定此标准具有十分重要的现实意义。

2、《电子电气产品中某些物质的测定第8部分：气相色谱－质谱法（GC－MS）与配有热裂解／热脱附的气相色谱－质谱法（Py／TD－GC－MS）测定聚合物中的邻苯二甲酸酯》

本标准规范了电子电气产品聚合物材料中增塑剂（Phthalates）含量的测试方法和快速测试方法。随着电子电气领域环保法规的严格化，更多有害物质种类被限制使用，为了适应产业对应对新种类有害物质限制要求和新型检测技术发展，同时保持我国RoHS检测技术及结果国际一致，特制定了此标准。

3、《化妆品中人工合成麝香的测定气相色谱－质谱法》

本标准适用于面膜、膏霜、乳、液、蜡质类化妆品中葵子麝香、西藏麝香、酮麝香、二甲苯麝香、佳乐麝香、吐纳麝香、开许梅陇、特拉斯、萨利麝香、粉檀麝香等多种合成麝香的检测。人工合成麝香具有良好的提香和定香能力，因此成为天然麝香的廉价替代品被广泛应用于化妆品中。根据《化妆品技术规范》，为了防止有毒有害的合成麝香类物质进入化妆品造成对人体的损害，有必要制定此标准实现对化妆品中多种合成麝香准确地定性和定量。

4、《离子型稀土原矿化学分析方法稀土总量的测定电感耦合等离子体质谱法》

目前，我国现有的两项稀土总量测量方法中，重量法和容量法主要适用于高含量稀土总量的测定，而离子型原矿稀土含量低，重量法和容量法并不能满足对离子型原矿稀土总量进行检测的要求，因此制定本标准是当务之急，这有利于中国稀土产业的规范和稳步发展。

二、2022年6月1日即将实施的有：

1、《化妆品中11种禁用唑类抗真菌药物的测定液相色谱－串联质谱法》

本标准适用于发用类化妆品中酮康唑、伏立康唑、克霉唑、联苯苄唑、伊曲康唑、益康唑、咪康唑、特康唑、氟康唑、奥西康唑和芬替康唑含量的测定。当前，一些不法厂商为了自身利益，会在其产品中添加违禁药物，如在洗发用品中违禁添加以酮康唑为代表的唑类抗真菌药物。消费者最初使用后会觉得效果很好，但长期使用会造成一系列副作用，会产生抗药性，甚至有可能导致全身性损害。因此，为了打击不良商家的此类行为，有必要制定此标准。

2、《化妆品中荧光增白剂367和荧光增白剂393的测定液相色谱－串联质谱法》

本标准适用于膏霜、乳液、液体类化妆品中荧光增白剂367和荧光增白剂393含量的测定。荧光增白剂能够提高物体白度，一些化妆品中就含有荧光增白剂，使用后会使皮肤达到美白的效果。然而，长期接触荧光增白剂，可能导致各种皮肤问题。由于目前还缺乏统一的荧光增白剂检测方法，因此此标准的出台能对荧光增白剂进行定性和定量的分析，为加强对化妆品的监管提供必要的技术支持。

3、《化妆品中二乙二醇单乙醚的测定气相色谱－质谱法》

二乙二醇单乙醚为高沸点溶剂，在喷发胶产品中常见，因其对生殖系统会产生一定危害，目前已被限制使用范围和剂量。为了保障化妆品产品质量安全，保障消费者权益，开发化妆品中二乙二醇单乙醚的测定十分必要。

4、《化妆品中烷基（C12～C22）三甲基铵盐的测定高效液相色谱串联质谱法》

烷基（C12～C22）三甲基铵盐属于季铵盐类防腐剂，具有亲水性和亲脂性，常作为乳化调理剂被用于各类香波、护发素等产品中。因其具有杀菌、抑制霉菌等功效，又可以作为防腐剂应用于其他类别的化妆品中。但是，烷基（C12～C22）三甲基氯（溴）化铵具有一定的刺激性，且对部分人群有致敏的可能，如果化妆品中的含量过多，会危害消费者的健康安全。因此，目前我国尚无化妆品中烷基三甲基氯（溴）化铵的检测方法标准，制定此标准可以促使企业遵守规章制度，有效加强化妆品质量监管，保障消费者的健康安全。

5、《化妆品中新铃兰醛的测定气相色谱－质谱法》

本标准新铃兰醛是一种合成香料，主要用于香水、调制皂及化妆品中，具有一定刺激性，可导致部分人群发生接触性过敏。有鉴于此，有必要建立相关检测方法标准。

三、2022年7月1日即将实施的有：

1、《铜及铜合金化学分析方法第28部分：铬、铁、锰、钴、镍、锌、砷、硒、银、镉、锡、锑、碲、铅和铋含量的测定电感耦合等离子体质谱法》

随着铜及铜合金产品的不断升级，对其质量把控也更加严苛。此标准的实施可以为铜及铜合金领域的综合开发提供有力的技术保证，对我国工业的发展具有重要的意义。

2、《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法》

本标准适用于碳化硅衬底及外延材料中硼、铝、氮元素的定量分析。碳化硅材料是制备高电压、高功率、高频和高温半导体电子器件的重要材料，因此在微波通讯、雷达、电力电子等领域的应用具有广阔前景，对于国民经济和国防建设具有重要作用。半绝缘碳化硅中氮杂质元素的含量是其半绝缘性能的直接判定依据，为了获得高纯半绝缘特性的碳化硅晶体，必须严格控制这两类杂质，因此，测定这两类杂质含量不可或缺。

3、《表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》

本标准阐述了薄膜材料测量溅射深度的方法。对于不同溅射率的材料组成的多层薄膜，轮廓仪测量法和溅射时间只能检测平均溅射率，不能保证检测的精确度，因此，针对单层和多层薄膜确定溅射率，此标准的实施填补了我国在标定溅射深度的技术空白。